2019年1月9日至11日，SENTECH仪器在中国北京举办了一次关于椭偏测量的研习班。国内众多科学家和用户都对SENTECH创新的薄膜测量仪器有着浓厚的兴趣。也正是因为这样，SENTECH仪器经常在中国组织面向用户应用的研讨会和研习班。这是为了向现有用户和潜在客户展示测量应用及其使用可能性。

SENTECH是等离子刻蚀、等离子沉积、原子层沉积和原位测量设备的专业制造商，介绍了在刻蚀硅和III-V化合物、在ICPECVD用介质膜沉积用作器件钝化、在ALD光学和高频器件应用方面的新的成果。以及先进的自动化。

SENTECH仪器参与了今年5月在上海举办的世界规模的光伏展“SNEC”,此次展会提供了下一代SENperc PV，众所周知的激光椭偏仪SE 400adv PV以及用于大型CIGS薄膜太阳能电池量测仪器SenSol的相关信息。

SENTECH将于2018年3月8日在柏林SENTECH总部举办主题为“等离子体工艺技术”的面向应用的研讨会。讨论主题如传感器技术中的低损伤蚀刻或深硅蚀刻将是重点。

2017年4月，SENTECH在国内有两大展览亮点。由于我们是等离子刻蚀和沉积工艺设备以及薄膜测量仪器方面的专家，所以SEMICON China 2017是我们必定参加的活动。两个展览的重点是向国内市场介绍新的等离子刻蚀和沉积应用以及推广新推出的SENperc PV设备。

SENTECH 2017等离子工艺技术研讨会交流了有关等离子设备及其应用的知识。来自工业和科研领域的受邀发言者介绍了刻蚀、PECVD和PEALD，并分享了不同应用的经验。讨论了均匀沉积、低损伤、高深宽比刻蚀等当前的研究课题。