SENTECH欧洲等离子工艺技术研讨会
SENTECH 2017年的“等离子体工艺技术”研讨会交流了有关等离子体设备及其应用的知识。受邀的工业和科研演讲者介绍了蚀刻，PECVD和PEALD，并分享了不同应用的经验。
与会者讨论了均匀沉积、低损伤、高深宽比刻蚀等当前的研究课题。来自Zweibrücken的RAM组的Roman Vitushinsky展示了低损伤和缓慢蚀刻如何显著提高NO2传感器的灵敏度。TU Eindhoven COBRA研究所的Yu.Jioa介绍了通过超光滑刻蚀对纳米光子集成的巨大改进。而且，来自Jena的Fraunhofer IOF的Adriana Szeghalmi展示了原子层沉积的均匀性、一致性和重复性如何可以用于复杂衬底(例如，光学光栅、球面透镜和多孔结构)上的光学层。
SENTECH要感谢所有参与2017年等离子体工艺技术研讨会的朋友。如果您想了解更多关于我们的研讨会，请联系我们。
