_tab1

tab1

_tab2

tab2

自动光谱椭偏仪SENDURO®

1416237562_7863__14_thumb

自动对准

光谱椭偏仪SENDURO® 所特有的全自动光谱椭偏免除了用户根据高度和倾斜度手动地对准样品的麻烦,这对于高精度和可重复的光谱椭偏是必需的。该专利的自动对准传感器大大减少了操作误差,适用于透明和反射样品,即使在弯曲的样品上也可实现自动扫描。

操作简单

配方模式非常适合于生产,工艺监控以及研发的常规应用。该光谱椭偏仪带有随机可的配方数据库,可以根据您的具体需要对其进行修改。

步进扫描分析器

步进扫描分析器SSA是SENTECH光谱椭偏技术的一个独有特征。分析样品的总时间只需几秒钟。


SENDURO® 可测量透明和反射基片上单层薄膜和层叠膜的折射率和厚度。SENDURO® 自动扫描则实现了较高的样品速度,化安装工作量和低的维护成本。该光谱椭偏仪的自动扫描具有预定义或用户定义的模式、允许广泛的统计特性和数据图形显示。

SENDURO® 是SENTECH自动化,占地面积小,设计紧凑的椭偏仪的代表。测量台包括椭偏仪光学部件、自动倾斜和高度传感器、电动样品台和控制器电子设备,它们全部紧凑的组合。为了达到更高产量的要求,我们的光谱椭偏仪也提供了片盒站装载尺寸到300 mm的大晶片。

SENDURO® 以其高样品测量速度,易于操作和自动对准在工业应用中表现出色。应用范围从半导体上的介质膜到玻璃上的多层光学涂层。

SENDURO® 优异的光谱椭偏软件具有配方模式和工程模式。配方模式致力于重复应用程序的简单执行。密码控制的用户登录允许不同级别的用户登录。在交互模式下,椭偏测量通过交互式的,指导性的图形用户界面得到增强。此外,可以使用材料数据库和散射模型修改已经存在的配方或建立新的配方。

Multi sample stage with semitransparent substratesMultilayer analysis by SpectraRay/3Compact housing of semi-automated ellipsometerCassette station for up to 300 mm waferSENDURO® 300 with cassette-to-cassette loadingApplicable measurement tool for R & DThickness map of spin coated photoresist / Si (substrate) with step size of 500 µm and 100 µmThickness map of Al2O3 / Si (substrate) according to SEMI standardApplicable for measurement in cleanroom environment

    联系我们   想获取更多信息,请点击此处。

    联系我们   想获取更多信息,请点击此处。