SENTECH等离子技术研讨会在上海成功举办

SENTECH是等离子刻蚀、等离子沉积、原子层沉积和原位测量设备的专业制造商，介绍了在刻蚀硅和III-V化合物、在ICPECVD用介质膜沉积用作器件钝化、在ALD光学和高频器件应用方面的新的成果。以及先进的自动化。

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原子层沉积设备

原子层沉积

SENTECH原子层沉积设备实现了热ALD和等离子体增强ALD操作。ALD设备可以配置为用于氧化物、氮化物和金属沉积。三维结构具有出色的均匀性和保行性。利用ALD、PECVD和ICPECVD，SENTECH提供等离子体沉积技术，用于从纳米尺度沉积到数微米的薄膜沉积。

ALD实时监测仪RTM

SENTECH ALD实时监测仪是一种新型的光学诊断工具，是心灵超高分辨率的单一ALD循环。在不破坏真空的条件下分析薄膜特性(生长速率，厚度，折射率)，在短时间内开发新工艺、实时研究ALD循环中的反应机理是SENTECH ALD实时监测仪的主要应用。