2018.05.31，上海交通大学
SENTECH等离子技术研讨会在上海成功举办
SENTECH，等离子体刻蚀，等离子体沉积，原子层沉积和原位测量方法的专家，展示了新的刻蚀硅和III -
V的化合物的成果，在ICPECVD沉积用于器件钝化层的介电薄膜的成果，以及ALD在光学和高频设备的应用和在先进的自动化中的应用。各种应用和刻蚀和沉积的优异表现都通过SENTECH等离子设备实现，并且都在会议报告中得到了强调。上海交通大学陈教授介绍了AEMD平台的运作和器件制造的能力。SENTECH也展示了特别用于生产的新的先进的自动化的成果。
在会议中和会后，参与者都对报告内容展开了热烈的讨论，展示了对SENTECH设备的强烈兴趣。SENTECH中国办事处和SENTEC德国总部组织了此次研讨会，在2018年5月31日顺利地在上海交通大学的先进电子材料与器件研究中心(AEMD)举办。来自当地的大学，研究所和公司的超过60位参会者参加了此次研讨会。我们感谢所有的参与者对SENTECH设备的兴趣以及他们的积极讨论。特别感谢陈教授，AEMD的负责人，热情支持此次SENTECH等离子研讨会。
