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SENTECH公司开发了新的SenSol R2R测量系统,用于以大型箔片为衬底的光伏器件。功能涂层的膜厚、光学和电学性能可以在2000米长的箔的任何位置测量。为此,应用了透射测量、反射测量和电气计量。挑战在于箔的柔韧性和张力,因为它们会导致凸起和皱纹。详见产品介绍
→了解更多SENresearch 4.0是一种创新的椭偏测量解决方案,它具有宽的光谱范围和高的光谱分辨率。步进扫描分析仪(SSA)原理用于椭偏测量。通过创新的2C设计扩展了SSA原理,允许测量完整的米勒矩阵。SENresearch 4.0附带了SpectraRay/4,用于高级材料分析的新的综合椭偏测量软件。详见产品介绍
→了解更多SENTECH很隆重地推出一个新的占地面积小的预真空室,现在集成在所有SENTECH等离子体沉积和刻蚀设备中。减少充气时间,排气时间,以及占地面积的SENTECH等离子设备。此外,新的预真空室也兼具了人体工程学晶片加载。详见产品介绍
→了解更多西安交通大学采购ENTECH创新的原子层沉积(ALD)设备。ALD系统配备了SENTECH原位激光椭偏仪,用于监测和开发新的原子层沉积过程。详见产品介绍
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