SENTECH 2017半导体展和光伏展
2017年4月，SENTECH的两大展览在国内举行。由于我们是先进等离子刻蚀和沉积工艺设备以及薄膜测量仪器的专家，SEMICON China 2017是我们必定参加的活动。我们的代表展位吸引了许多用户参观，并和我们的工作人员进行了富有成果的讨论。此次展览的重点是向国内市场介绍新的等离子刻蚀和沉积应用。
用于工业和研发的等离子刻蚀和沉积多腔系统是我们在SEMICON China 2017上的主题。SENTECH多腔系统是刻蚀、沉积和ALD技术的组合。半导体和介电材料可自动加工，不中断真空和实现高产量。片盒式载片可供选择。因此，SENTECH多腔系统特别适合于工业应用。
此外，SENTECH演示了着重于我们畅销的等离子体蚀刻和沉积系统SI 500和SI 500 D的新应用。面向客户的工业应用是我们的主要目标。通过硅通孔和沟槽对熔融二氧化硅进行深蚀刻的结果特别引起了我们的用户的兴趣。对于GaN器件来说，非常低的蚀刻速率和无损伤的ICP刻蚀的独特成果以及InP pillar刻蚀的新结果也引起了极大的兴趣。在等离子体增强沉积领域中，我们重点研究了使用液体前驱体的ICPECVD以及基于硅烷和TEOS的沉积工艺在高纵横比TSV分离中的应用。
我们也参加了作为光伏展会的SNEC 2017光伏电力博览会。2017年4月19日至21日，SNEC 2017参展商在上海展出了清洁和可持续能源生产的创新解决方案和新产品。SENTECH展位的亮点是SENperc PV。该设备是新开发的，用于PERC后侧制造的质量控制。在SNEC 2016，SENperc PV被评为10大亮点之一。SENTECH用户对探索该工具如何以mc-Si和c-Si电池背面的双层(SiNx/Al2O3)和单层(Al2O3，SiNx)的质量控制为特征非常感兴趣。
SENTECH还推出了著名的测量产品SE 400adv PV和SE 800 PV。两种产品都是电弧涂层厚度测量的标准产品。这些仪器的主要特点是操作简便、测量灵敏度高、去偏振校正和特殊的集光光学。这两种椭偏仪都通过可靠性和高质量测量在亚洲市场上得到验证。
我们感谢所有来宾，当然也感谢来自SENTECH国内的员工，感谢他们成功举办了2017年的SEMICON和2017年的SNEC 2017。有关我们的多腔系统、等离子刻蚀机和PECVD系统以及光电测量工具的更多信息，请与我们联系。
