SENTECH是等离子刻蚀、等离子沉积、原子层沉积和原位测量设备的专业制造商，介绍了在刻蚀硅和III-V化合物、在ICPECVD用介质膜沉积用作器件钝化、在ALD光学和高频器件应用方面的新的成果。以及先进的自动化。

多腔系统

集成等离子刻蚀和沉积的多腔系统

SENTECH多腔系统包括等离子刻蚀和/或沉积腔体、传送腔室、预真空室或片盒站。传送腔室包括传送机械手臂，可适用于三至六个端口。可以使用多达两个片盒站来增加产量。传送腔室可以配备多种选择。